製品概要

当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用の、φ300mm対応クラスター式スパッタリング装置です。

用途

Metal-Gate 量産

特長

- 超高真空Co-スパッタによる膜組成制御 - 極薄膜の高精度な膜厚制御（0.1nm単位）、優れた膜厚均一性 (1σ＜1％) - Under 32nmダマシン・ゲート形成プロセスにも対応可能(PCM-PVDによる高カバレッジ成膜) - 小型カソード採用による低い材料コスト（容易な材料変更）