製品概要

Niフィラメントを採用し、耐蝕性を向上させ、RIE、CVDなどのハードプロセス装置に対応したモデルです。

用途

- 半導体、電子デバイス製造装置
　ドライエッチング装置、プラズマCVD装置、LD-CVD装置など
- 食品・医薬品製造装置
　真空凍結乾燥、真空蒸留装置、滅菌装置など

특징

1. 耐食性の向上
　Niフィラメント採用等
2. 再現性がよく低価格
3. 5×10-2Paから大気圧