개요

주로 반도체 메모리로 사용하는 금속배선 재료의 박막 형성에 대응한 클러스터식 스퍼터링 장비입니다. 당사 독자 카에라 캐소드 기술로 반응성 스퍼터 및 고 스트레스 재료에 있어서도 양호한 균일성과 저 파티클을 양립하였습니다. 높은 수율과 높은 생산성 실현으로 제조 코스트의 큰 폭의 억제가 가능한 장비입니다.

용도

반도체 메모리 (금속 배선 재료용)의 양산

특징

- 레시피마다 In-Situ로 캐소드 마그넷 위치 (3축)를 변경 가능 (균일성, 크리닝의 최적화가 간편)
- 세계 최고 수준에 위치하는 쓰루풋 (80매/시간)을 실현
- 반도체 메모리 양산 현장에서 90%이상의 가동률을 실현 (고장률 <1%)