개요

종래의 반응성 에칭으로는 가공이 곤란한 MRAM 다층 자성막을 일괄로 에칭 가능한 이온 빔 에칭 장치입니다. 높은 가공성능과 생산성을 실현하였습니다.

용도

MRAM 양산

특징

- 대구경 Grid에 의한 높은 균일성과 생산성
- 클램프레스 홀더에 의한 전면 에칭
- OES (광학식 엔드 포인트 시스템)에 의한 MRAM 다층막에서 사용되는 각종 금속막의 검출