개요

Ni필라멘트를 채용하여 내식성을 향상시켰으며 RIE, CVD등의 하드 프로세스 장치에 대응한 모델입니다.

용도

- 반도체, 전자 디바이스 제조 장치
- 드라이 에칭 장치, 플라스마 CVD 장치, LD-CVD 장치 등
- 식품·의약품 제조 장치
- 진공 동결 건조, 진공 증류 장치, 멸균 장치 등

특징

1. 내식성의 향상
- Ni필라멘트 채용등
2. 재현성 대비 저가격
3. 5×10-2Pa에서 대기압까지 측정 가능