半導体露光装置
半導体製造で一番重要な工程と言えば、設計した回路パターンをウエハに転写するリソグラフィ(Lithography) 工程です。キヤノンでは各光源別露光装備を保有しており、多様な回路線幅の露光が可能です。 また、メモリー及び各種ロジックデバイスだけではなく、再配線及びTSV工程でも使用が可能な装備を保有していて、半導体リソグラフィー(Lithography) 工程の殆どの領域において顧客対応をしています。
キヤノン露光装置50周年記念サイトを開設しました。記念サイトへ
i線ステッパー 後工程向け
-
FPA-5520iV