真空成膜加工装置
長年培った真空技術と薄膜技術をベースに開発した各種装置をご提供いたします。半導体製造ラインに用いられる信頼性の高いスパッタリング装置を開発・製造、LEDやパワーデバイスをはじめ、次世代の技術研究、部品開発から生産までを、キヤノンアネルバの多彩な装置ラインナップがサポートしています。
半導体デバイス製造装置
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メタルゲート形成用スパッタリング装置 FC7100
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メモリ配線用スパッタリング装置 IC7500
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メモリ配線用スパッタリング装置 IC7200
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実装用スパッタリング装置 IC7400
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MRAM用スパッタリング装置 EC7800
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MRAM用スパッタリング装置 NC7900
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MRAM用ドライエッチング装置 EC8000
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MRAM用ドライエッチング装置 NC8000
電子部品製造装置 研究開発・小規模生産装置
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原子拡散接合装置 BC7000
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研究開発用スパッタリング装置 EB1000
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研究開発・小規模生産用スパッタリング装置 EB1100
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小規模生産用スパッタリング装置 EC7000シリーズ
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LED生産用スパッタリング装置 EL3000シリーズ
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SiC活性化用アニール装置（EBAS） EC7200
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電子部品生産用スパッタリング装置 EC7400
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LED生産用スパッタリング装置 EC8100
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電子部品生産用インライン式スパッタリング装置 EL3200
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高密度実装向けスパッタリング装置 EL3400